(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221964157.2 (22)申请日 2022.07.28 (73)专利权人 河南微纳半导体科技有限公司 地址 471000 河南省洛阳市西工区中州中 路451号2幢1-916 (72)发明人 张伟　 (74)专利代理 机构 河南商盾云专利代理事务所 (特殊普通 合伙) 41199 专利代理师 何开东 (51)Int.Cl. B24B 9/02(2006.01) B24B 47/22(2006.01) B24B 41/06(2012.01) B24B 41/00(2006.01) B24B 47/12(2006.01) (54)实用新型名称 一种新型掩膜版处 理设备 (57)摘要 本实用新型公开了一种新型掩膜版处理设 备， 涉及掩膜版加工技术领域， 包括机体， 所述机 体的顶部安装有顶板， 且顶板的内部开设有调节 槽， 所述调节槽的内部开设有螺孔， 且调节槽的 内部连接有调节块， 所述调节 块的内部与螺孔的 内部连接有螺纹杆， 且螺纹杆的一端安装有调节 头， 所述调节块的底部安装有固定板， 且固定板 的内部开 设有滑槽。 本实用新型中， 设置有机体、 顶板、 打磨头、 固定板、 调节块、 螺纹杆、 调节头以 及调节槽， 通过操作调节块就方便带动打磨头进 行移动操作， 再通过操作调节头就方便带动螺纹 杆进行旋转移动操作， 这样就方便完成打磨头 之 间的间距调节工作， 便于对不同类型(尺寸大小) 的掩膜版进行四边打磨工作。 权利要求书1页 说明书3页 附图2页 CN 217619576 U 2022.10.21 CN 217619576 U 1.一种新型掩膜版处 理设备， 其特 征在于， 包括： 机体(1)， 所述机体(1)的顶部安装有顶板(2)， 且顶板(2)的内部开设有调节槽(3)， 所 述调节槽(3)的内部开设有螺孔(7)， 且调节槽(3)的内部连接有调节块(4)， 所述调节 块(4) 的内部与螺孔(7)的内部连接有螺纹杆(6)， 且螺纹杆(6)的一端安装有调节头(5)， 所述调 节块(4)的底部安装有固定板(8)， 且固定板(8)的内部开设有滑槽(20)， 所述滑槽(20)的内 部安装有电动推杆(18)， 且电动推杆(18)的末端连接有连接块(19)， 所述连接块(19)的内 部安装有调节板(15)， 且调节板(15)的一侧安装有驱动电机(14)， 所述驱动电机(14)的输 出端连接有第二旋转杆(16)， 且第二旋转杆(16)的一侧活动安装有打磨头(17)。 2.根据权利要求1所述的一种新型掩膜版处理设备， 其特征在于： 所述机体(1)的内部 开设有收集槽(13)， 且机体(1)的底部安装有减速电机(12)， 所述减速电机(12)的输出端 连 接有第一旋转杆(11)， 且第一旋转杆(11)的顶部与收集槽(13)的上方设置有支撑板(9)， 所 述支撑板(9)的顶部安装有强力吸盘(10)。 3.根据权利要求2所述的一种新型掩膜版处理设备， 其特征在于： 所述强力吸盘(10)与 机体(1)之间通过减速电机(12)、 第一旋转杆(11)、 支撑板(9)构成旋转结构， 且强力吸盘 (10)关于支撑 板(9)的纵轴对称。 4.根据权利要求1所述的一种新型掩膜版处理设备， 其特征在于： 所述打磨头(17)与固 定板(8)之间通过驱动电机(14)、 第二旋转杆(16)构成旋转结构， 且打磨头(17)分布有两 组。 5.根据权利要求1所述的一种新型掩膜版处理设备， 其特征在于： 所述打磨头(17)与机 体(1)之间通过电动推杆(18)、 调节板(15)构成移动结构， 且调节板(15)的外壁与滑槽(20) 的内壁相接触。 6.根据权利要求1所述的一种新型掩膜版处理设备， 其特征在于： 所述固定板(8)与顶 板(2)之间通过调节 块(4)、 调节槽(3)构成移动结构， 且调节块(4)的外壁与调节槽(3)的内 壁相接触。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217619576 U 2一种新型掩膜版 处理设备 技术领域 [0001]本实用新型 涉及掩膜版加工技 术领域， 尤其涉及一种新型掩膜版处 理设备。 背景技术 [0002]芯片指的是将电路制造在半导体芯片表面上的集成电路又称薄膜集成电路， 另有 一种厚膜集成电路是由独立半导体设备和被动组件， 集成到衬底或线路板所构成的小 型化 电路。 现代计算、 交流、 制造和交通系统， 包括互联网， 全都依赖于集成电路 的存在。 在芯片 制造里， 掩膜版就是光罩， 它可以被理解为包含芯片版图信息的胶片， 经过曝光以后， 掩膜 版里的版图就被刻到了晶圆上， 光掩膜基版是制作微细光掩膜图形 的理想感光性空 白板， 通过光刻制版工艺可以获得所需光掩膜版， 掩膜版在生产加工过程中常常需要对其进 行打 磨处理。 [0003]现有的掩膜版处理设备， 在使用过程中， 由于打磨机构都是固定式的， 使得处理设 备大都只能对同一类型(尺寸大小)的掩膜版进行打磨， 局限性较大。 实用新型内容 [0004]本实用新型的目的是为了解决现有的掩膜版处理设备， 在使用过程中， 由于打磨 机构都是固定式的， 使得处理设备大都只能对同一类型(尺寸大小)的掩膜版进行打磨， 局 限性较大的缺 点， 而提出的一种新型掩膜版处 理设备。 [0005]为了实现上述目的， 本实用新型采用了如下技 术方案： [0006]一种新型掩膜版处 理设备， 包括： [0007]机体， 所述机体的顶部安装有顶板， 且顶板的内部开设有调节槽， 所述调节槽的内 部开设有螺孔， 且调节槽的内部连接有调节块， 所述调节块的内部与螺孔的内部连接有螺 纹杆， 且螺纹杆的一端安装有调节头， 所述调节 块的底部安装有固定板， 且固定板的内部开 设有滑槽， 所述滑槽的内部安装有电动推杆， 且电动推杆的末端 连接有连接块， 所述连接块 的内部安装有调节板， 且调节板的一侧 安装有驱动电机， 所述驱动电机的输出端连接有第 二旋转杆， 且第二旋转杆的一侧活动安装有打磨头 。 [0008]优选的， 所述机体的内部开设有收集槽， 且机体的底部安装有减速电机， 所述减速 电机的输出端连接有第一旋转杆， 且第一旋转杆的顶部与收集槽的上方设置有支撑板， 所 述支撑板的顶部安装有强力吸盘。 [0009]优选的， 所述强力吸盘与机体之间通过减速电机、 第一旋转杆、 支撑板构成旋转结 构， 且强力吸盘关于支撑 板的纵轴对称。 [0010]优选的， 所述打磨头与固定板之间通过驱动电机、 第二旋转杆构成旋转结构， 且打 磨头分布有两组。 [0011]优选的， 所述打磨头与机体之间通过电动推杆、 调节板构成移动结构， 且调节板的 外壁与滑槽的内壁相接触。 [0012]优选的， 所述固定板与顶板之间通过调节块、 调节槽构成移动结构， 且调节块的外说　明　书 1/3 页 3 CN 217619576 U 3