(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211161465.6 (22)申请日 2022.09.22 (71)申请人 京东方科技 集团股份有限公司 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 (72)发明人 刘跃华　陈少棚　李必奇　 (74)专利代理 机构 北京志霖恒远知识产权代理 有限公司 1 1435 专利代理师 郭栋梁 (51)Int.Cl. G01N 33/00(2006.01) C01G 15/00(2006.01) C01G 9/02(2006.01) B82Y 15/00(2011.01) B82Y 40/00(2011.01) (54)发明名称 气体传感器的制备方法、 采样单元及监控系 统 (57)摘要 本申请公开了一种气体传感器的制备方法、 采样单元及监控系统， 制备方法， 其特征在于， 包 括： 利用电子束蒸发真空镀膜机通过倾斜生长 法 获得金属氧化物纳米棒阵列； 在生长过程中或生 长之后， 向所述金属氧化物纳米棒阵列中掺杂目 标金属， 得到气体传感器； 或者在所述金属氧化 物纳米棒阵列中的每个金属氧化物纳米棒的外 侧包覆所述目标金属对应的金属氧化物， 得到所 述气体传感器， 通过制备能够对酒窖内的多种气 体具有敏感度的传感器， 有效提高对酒窖内气体 的采样能力。 权利要求书2页 说明书9页 附图4页 CN 115524453 A 2022.12.27 CN 115524453 A 1.一种气体传感器的制备 方法， 其特 征在于， 包括： 利用电子束 蒸发真空镀膜机通过倾 斜生长法获得 金属氧化物纳米棒阵列； 在生长过程中或生长之后， 向所述金属氧化物纳米棒阵列中掺杂目标金属， 得到气体 传感器； 或者 在所述金属氧化物纳米棒阵列中的每个金属氧化物纳米棒的外侧包覆所述目标金属 对应的金属氧化物， 得到所述气体传感器。 2.根据权利要求1所述的制备方法， 其特征在于， 在所述电子束蒸发真空镀膜机 中增加 电子束蒸发机构， 所述在生长过程中向所述金属氧化物纳米棒中掺杂目标 金属， 包括： 在所述电子束蒸发真空镀膜机生长所述金属氧化物纳米棒阵列时， 控制所述增加电子 束蒸发机构向生长所述金属氧化物纳米棒阵列的区域蒸发所述目标 金属。 3.根据权利要求2所述的制备方法， 其特征在于， 所述增加电子束蒸发机构的蒸发速率 小于所述电子束 蒸发真空镀膜机中电子束 蒸发机构的蒸发速率。 4.根据权利要求1所述的制备方法， 其特征在于， 所述在生长之后向所述金属氧化物纳 米棒阵列中掺杂目标 金属， 包括： 将所述金属氧化物纳米棒阵列在包 含所述目标 金属的金属溶 液中浸泡第一时间； 将浸泡后的所述金属氧化物纳米棒阵列在还原溶 液中浸泡第二时间。 5.根据权利要求 4所述的制备 方法， 其特 征在于， 还 包括： 在将浸泡后的所述金属氧化物纳米棒阵列在还原溶液中浸泡第 二时间之前， 将浸泡后 的所述金属氧化物纳米棒阵列在去离 子水中浸泡第三时间； 以及 在将浸泡后的所述金属氧化物纳米棒阵列在还原溶液中浸泡第 二时间之后， 将浸泡后 的所述金属氧化物纳米棒阵列在所述去离 子水中浸泡第四 时间。 6.根据权利要求1所述的制备方法， 其特征在于， 在所述金属氧化物纳米棒阵列中的每 个金属氧化物纳米棒的外侧包覆所述目标 金属对应的金属氧化物， 包括： 将所述金属氧化物纳米棒阵列置 于反应腔内； 向所述反应腔内冲入第 一气相反应物， 得到由所述第 一气象反应物包覆所述金属氧化 物纳米棒， 所述第一气相反应物包 含所述目标 金属； 向所述反应腔内冲入第 二气相反应物， 以使所述第 二气相反应物与包覆在所述金属氧 化物纳米棒上包覆的所述第一气相反应物发生化学反应， 得到所述目标金属对应的金属氧 化物。 7.根据权利要求1 ‑6中任一所述的制备方法， 其特征在于， 所述金属氧化物纳米棒为 ZnO2纳米棒或I n2O3纳米棒， 所述目标 金属为Pd、 Ag、 Au、 Ti和Sn中的一种或多种。 8.一种气体采样单元， 其特征在于， 所述气体采样单元包括气体传感器阵列， 所述气体 传感器阵列中的多个气 体传感器均由权利要求 1‑7中任一所述气体传感器的制备方法制备 得到。 9.一种智能监控系统， 其特征在于， 所述智能监控系统包括如权利要求8所述的气体采 样单元； 所述气体采样单元设置于待检测设备内部的上层区域， 用于对所述待检测设备上层区 域的不同气体进行采样。 10.根据权利要求8所述的监控系统， 其特征在于， 所述监控系统还包括温度传感器、 设权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115524453 A 2置于所述待检测设备外侧的循环温控单元和控制单元， 所述温度传感器和所述循环温控单 元分别与所述控制单 元相连；· 所述控制单元用于接收所述温度传感器采集到的当前温度， 并根据所述当前温度控制 所述循环温控单 元对所述待检测设备进行温度调节。 11.根据权利要求10所述的监控系统， 其特征在于， 所述监控系统至少包括三个所述温 度传感器， 三个所述温度传感器分别设置于所述待检测设备内部的所述上层区域、 中层区 域和下层区域， 所述控制单元分别根据三个所述温度传感器采集到的当前温度， 对设置于相应区域的 所述循环温控单 元进行控制。 12.根据权利要求11所述的监控系统， 其特征在于， 所述监控系统还包括湿度传感器和 湿度调节单 元， 所述湿度传感器和所述湿度调节单 元分别与所述控制单 元相连； 所述控制单元用于根据所述湿度传感器采集的当前湿度控制所述湿度调节单元对所 述待检测设备的所述上层区域进行湿度调节。 13.根据权利要求12所述的监控系统， 其特征在于， 所述监控系统还包括液体采样单 元， 所述液体采样单 元与所述控制单 元相连； 所述控制单 元用于根据所述液体采样单 元采集到的液体进行定量分析。 14.根据权利要求9所述的监控系统， 其特 征在于， 所述待检测设备为酒窖。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115524453 A 3