(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210992949.9 (22)申请日 2022.08.18 (71)申请人 山东森博斯特塑胶科技有限公司 地址 262508 山东省潍坊市青州市高柳镇 华邦大街69 9号 (72)发明人 徐蕾　耿宗亮　孙金荣　 (74)专利代理 机构 济南鼎信专利商标代理事务 所(普通合伙) 37245 专利代理师 赵长林 (51)Int.Cl. B32B 27/32(2006.01) B32B 3/26(2006.01) B32B 5/18(2006.01) B32B 27/08(2006.01) B32B 27/18(2006.01)B32B 27/30(2006.01) C08L 23/08(2006.01) C08L 23/06(2006.01) C08K 3/22(2006.01) (54)发明名称 一种抗撕裂的基材膜 (57)摘要 一种抗撕裂的基材膜， 包括贴合设置的上层 膜， 中层膜和下层膜， 所述上层膜、 中层 膜以及下 层膜的基料为高分子有机物； 在上层膜、 中层膜 和下层膜中添加有茂金属， 所述中层膜中的茂金 属含量为15wt％ ‑25wt％， 所述上层膜和下层膜 中的茂金属含量为25wt％ ‑30wt％。 本申请通过 设置三层含有茂金属不同的单层膜， 使得在受到 外力穿孔之后， 由于基材膜自身外侧和中部存在 不同的强度和拉伸度， 使得中部起到一定的缠 绕， 外侧则是起到防护拉伸的作用， 从而尽可能 避免在穿 孔之后的持续损坏。 权利要求书1页 说明书9页 附图2页 CN 115122741 A 2022.09.30 CN 115122741 A 1.一种抗撕裂的基材膜， 其特征在于： 包括贴合设置的上层膜， 中层膜和下层膜， 所述 上层膜、 中层膜以及下层膜的基料为高分子有机物； 在上层膜、 中层膜和下层膜中添加有茂 金属， 所述中层膜中的茂 金属含量为15wt％ ‑25wt％， 所述上层膜和下层膜中的茂 金属含量 为25wt％ ‑30wt％。 2.根据权利要求1所述的一种抗撕裂的基材膜， 其特征在于： 在上层膜、 中层膜和下层 膜中还添加有光稳定剂； 所述光稳定剂的添加量为0.4wt％ ‑0.8wt％； 所述光稳定剂为光稳 定剂944。 3.根据权利要求1所述的一种抗撕裂的基材膜， 其特征在于： 所述高分子有机物为聚乙 烯和乙烯 ‑醋酸乙烯共聚物的混合物， 所述乙烯 ‑醋酸乙烯共聚物与聚乙烯的质量比为0 ‑1: 1。 4.根据权利要求1所述的一种抗撕裂的基材膜， 其特征在于： 所述中层膜中含有水滑 石， 所述水滑石含量为1wt％ ‑2wt％； 所述中层膜中还含有发泡母料， 所述发泡母料的含量 为4‑5wt％。 5.根据权利要求4所述的一种抗撕裂的基材膜， 其特征在于： 所述上层膜和中层膜中的 茂金属含量比中层膜中 高不少于 5wt％。 6.根据权利要求4所述的一种抗撕裂的基材膜， 其特征在于： 所述中层膜中还含有有机 转光剂， 所述有机转光剂的含量为0.1 ‑0.3wt％； 所述有机转光剂为2,4,6 ‑三[双(甲氧基甲 基)氨基] ‑1,3,5‑三嗪。 7.根据权利要求1所述的一种抗撕裂的基材膜， 其特征在于： 在上层膜远离下层膜的外 侧设置有与上层膜材质一致的最上层膜； 在下层膜远离上层膜的外侧设置有与下层膜材质 一致的最下层膜。 8.根据权利要求1所述的一种抗 撕裂的基材膜， 其特 征在于： 按照如下步骤合成： 根据透气膜中的各层膜的组份进行原料混合得到与各层膜对应设置的混合物料； 将混合物料进行充分加热并热熔挤出、 吹塑、 冷却定形、 挤压牵引得到多层 设置的复合 膜形成基材膜。 9.根据权利要求8所述的一种抗撕裂的基材膜， 其特征在于， 在进行原料混合 时的搅拌 速度为70 0‑1000r/min， 搅拌时间为3 ‑10min。 10.根据权利要求8所述的一种抗撕裂的基材膜， 其特征在于， 还设置有若干通孔， 所述 通孔的面积为2 ‑4mm2； 所述基材膜上的通孔均布设置， 所述通孔所占面积为总的基材膜面 积的0.01 ‑0.1％； 通 孔通过激光打孔或者机 械打孔的方式得到 。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115122741 A 2一种抗撕裂的基材膜 技术领域 [0001]本申请涉及一种抗 撕裂的基材膜。 背景技术 [0002]透气膜的设置形式是多样的， 一般要求的是其自身结构的稳定性。 现在为了增强 膜自身强度和内部组份的可调节性， 一般是采用多层膜结构。 虽然现在的多层膜结构由于 其合成工艺的改进， 各层之 间几乎不会发生脱层现象。 但是在一些特殊工艺之下， 如需要设 置物理孔 等情况， 则需要对于基膜的物理性能进行调整。 发明内容 [0003]为了解决上述问题， 本申请提出了一种抗撕裂的基材膜， 包括贴合设置的上层膜， 中层膜和下层膜， 所述上层膜、 中层膜以及下层膜的基料为高分子有机物； 在上层膜、 中层 膜和下层膜中添加有茂 金属， 所述中层膜中的茂 金属含量为15wt％ ‑25wt％， 所述上层膜和 下层膜中的茂金属含量为25wt％ ‑30wt％。 本申请通过设置三层 含有茂金属不同的单层膜， 使得在受到外力穿孔之后， 由于基材膜自身外侧和中部存在不同的强度和拉伸度， 使得中 部起到一定的缠绕， 外侧则是起到防护 拉伸的作用， 从而尽可能避免在穿孔之后的持续损 坏。 [0004]优选的， 在上层膜、 中层膜和下层膜中还添加有光稳定剂； 所述光稳定剂的添加量 为0.4wt％‑0.8wt％； 所述 光稳定剂为 光稳定剂94 4。 [0005]优选的， 所述高分子有机物为聚乙烯和乙烯 ‑醋酸乙烯共聚物的混合物， 所述乙 烯‑醋酸乙烯共聚物与聚乙烯的质量比为0 ‑1:1。 [0006]优选的， 所述中层膜中含有水滑石， 所述水滑石含量 为1wt％‑2wt％。 [0007]优选的， 所述中层膜中还 含有发泡母料， 所述发泡母料的含量 为4‑5wt％。 [0008]优选的， 所述上层膜和中层膜中的茂金属含量比中层膜中高不少于5wt％。 优选 的， 所述中层膜 中还含有有机转光剂， 所述有机转光剂的含量为0.1 ‑0.3wt％； 所述有机转 光剂为2,4,6 ‑三[双(甲氧基甲基)氨基] ‑1,3,5‑三嗪。 本申请在中层膜添加水滑石可以起 到雾化的作用， 且在中层膜当中加入到水滑石之后， 还达到了提高整体膜强度的作用， 推测 是因为加入水滑石之后， 中层膜自身的膜强度减弱， 但是与上层膜和下层膜之间具有更好 的结合性， 从而提高了其整体性， 提高了产生穿孔之后的防护强度， 发泡母料则是自身具有 发泡作用， 使得中层膜自身产生内部的气泡， 这可以加强其对抗穿孔的作用， 而对于有机转 光剂， 可以提高其内部的关联程度， 从而保证其中层膜的自身强度。 [0009]优选的， 在上层膜远离下层膜的外侧 设置有与上层膜材质一致的最上层膜； 在下 层膜远离上层膜的外侧设置有与下层膜材质一致的最下层膜。 本申请的每层膜约为 0.02mm， 在实际使用时， 最少利用两层膜基本上就可以达到使用要求， 采用三层膜之后， 由 于存在内外之别， 可以更好的通过组份调整来达到更优化效果， 采用五层膜则是可以对于 外层的膜进 行结构加强， 之所以采用同组份加强， 而非厚度增厚的方式， 主要 是为了在受到说　明　书 1/9 页 3 CN 115122741 A 3