(19)中华 人民共和国 国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210300082.6 (22)申请日 2022.03.25 (71)申请人 杭州广立 微电子股份有限公司 地址 310013 浙江省杭州市西湖区西斗门 路3号天堂软件园A幢15楼F1座 (72)发明人 杨文浩　刘永利　 (74)专利代理 机构 杭州华进联浙知识产权代理 有限公司 3 3250 代理人 周长梅 (51)Int.Cl. G06F 9/451(2018.01) G06F 3/04842(2022.01) G06F 3/0488(2022.01) G06T 11/20(2006.01) (54)发明名称 基于WAT测试的晶圆良率数据处理方法和计 算机设备 (57)摘要 本申请涉及一种基于WAT测试的晶圆良率数 据处理方法和计算机设备。 方法包括： 展示第一 交互界面， 第一交互界面包括多个WAT测试参数 的可选择组件； 响应于用户对可选择组件的选 择， 确定被选择的WAT测试参数对应的晶圆良率 数据； 根据晶圆良率数据， 生 成晶圆良率散点图， 并在第一交互界面中显示晶圆良率散点图； 晶圆 良率散点图包括第一WAT拟合曲线和多个晶圆散 点； 晶圆良率散点图的横轴表示被选择的WAT测 试参数对应的参数值， 晶圆良率散点图的纵轴表 示晶圆良率； 第一WAT拟合曲线基于所述多个晶 圆散点的良率数据拟合得到， 用于表 示被选择的 WAT测试参数对应的参数值与所述晶圆良率之间 的关系。 采用本方法能够提高晶圆可接受度测试 的效率。 权利要求书3页 说明书15页 附图7页 CN 114398141 A 2022.04.26 CN 114398141 A 1.一种基于WAT测试的 晶圆良率数据处 理方法， 其特 征在于， 所述方法包括： 展示第一交互界面， 所述第一交互界面包括多个WAT测试参数的可选择组件； 所述WAT 测试参数包括至少一个WAT测试维度； 响应于用户对所述可选择组件的选择， 确定被选择的WAT测试参数对应的晶圆良率数 据； 根据所述晶圆良率数据， 生成晶圆良率散点图， 并在所述第一交互界面中显示所述晶 圆良率散点图； 所述晶圆良率散点图包括第一WAT拟合曲线和多个晶圆散点； 所述晶圆良率 散点图的横轴表示所述被选择 的WAT测试参数对应的参数值， 所述晶圆良率散点图的纵轴 表示晶圆良率； 所述第一WAT拟合曲线基于所述多个晶圆散点的良率数据拟合得到， 用于表 示被选择的WAT测试参数对应的参数值与所述晶圆良率之间的关系。 2.根据权利要求1所述的方法， 其特征在于， 所述晶圆良率数据包括被选择的WAT测试 参数在不同数值下对应的 晶圆良率； 所述生成晶圆良率散点图， 之前还 包括： 根据被选择的WAT测试参数在不同数值下对应的晶圆良率， 确定所述第一WAT拟合曲线 对应的拟合 函数， 以及所述拟合 函数的参数； 预先存储所述拟合 函数的参数。 3.根据权利要求1所述的方法， 其特征在于， 在所述响应于用户对所述可选择组件的选 择之前， 所述方法还 包括： 获取WAT测试参数的原始数据， 并按照至少一种数据维度对所述原始数据进行预统计 并存储预统计结果； 对应地， 所述确定被选择的WAT测试参数对应的 晶圆良率数据， 包括： 根据与所述被选择的WAT测试参数所对应的预统计结果， 生成被选择的WAT测试参数对 应的晶圆良率数据。 4.根据权利要求1所述的方法， 其特征在于， 在所述响应于用户对所述可选择组件的选 择之前， 所述方法还 包括： 获取WAT测试参数与晶圆良率的相关性 阈值， 根据所述相关性阈值筛分出多个WAT测试 参数的可选择组件； 所述相关性阈值 为WAT测试参数与晶圆良率的拟合优度值的预设阈值。 5.根据权利要求1所述的方法， 其特征在于， 所述确定被选择的WAT测试参数对应的晶 圆良率数据， 之后还 包括： 根据所述晶圆良率数据， 生成晶圆良率堆叠 图， 并在所述第一交互界面中显示所述晶 圆良率堆叠图； 所述晶圆良率堆叠图包括多块裸片， 所述裸片的颜色用于表示所述裸片的 良率大小； 所述 裸片的良率大小根据多个所述晶圆中相同位置处的裸片良率计算得到 。 6.根据权利要求5所述的方法， 其特 征在于， 所述方法还 包括： 响应于用户在所述晶圆良率堆叠图上的第 一预设操作， 展示参与统计所述晶圆良率堆 叠图的各个晶圆的 晶圆良率图。 7.根据权利要求5所述的方法， 其特征在于， 所述第 一交互界面还包括缺陷失效率统计 图表， 所述 缺陷失效率统计图表用于表示 不同的裸片缺陷类型 所对应的失效率。 8.根据权利要求6所述的方法， 其特 征在于， 所述方法还 包括： 响应于用户在所述晶圆良率堆叠图上的第 一预设操作， 展示参与统计所述晶圆良率堆权　利　要　求　书 1/3 页 2 CN 114398141 A 2叠图的各个晶圆的WAT测试参数值分布图； 所述WAT测试参数值分布图包括从所述晶圆中的 抽取的多块 裸片， 所述抽取的裸片上显示所述 裸片位置处设置的WAT测试参数值。 9.根据权利要求1所述的方法， 其特征在于， 所述确定被选择的WAT测试参数对应的晶 圆良率数据， 之后还 包括： 根据所述晶圆良率数据， 确定WAT测试参数值堆叠图， 并在所述第 一交互界面中显示所 述WAT测试参数值堆叠图； 所述WAT测试参数值堆叠图包括从所述晶圆中的抽取的多块裸 片， 所述抽取的裸片上显示所述裸片位置处设置的WAT测试参数值； 所述WAT测试参数值根 据多个所述晶圆中相同位置处的裸片对应的WAT测试参数值计算得到 。 10.根据权利要求9所述的方法， 其特 征在于， 所述方法还 包括： 响应于用户在所述WAT测试参数值堆叠图上的第二预设操作， 将所述WAT测试参数值堆 叠图切换为 等高线图。 11.根据权利要求1所述的方法， 其特征在于， 所述在所述第一交互界面中显示所述晶 圆良率散点图， 之后还 包括： 响应于用户在所述晶圆良率散点图上的第 三预设操作， 将所述晶圆良率散点图切换为 晶圆良率直方图； 所述晶圆良率直方图的横轴表示被选择的WAT测试参数对应的参数值， 所 述晶圆良率直方图的左纵轴表示参与统计的晶圆的个数， 所述晶圆良率直方图的右纵轴表 示晶圆良率。 12.根据权利要求1所述的方法， 其特征在于， 在所述第一交互界面中显示所述晶圆良 率散点图， 之后还 包括： 响应于用户在所述晶圆良率散点图上的第五预设操作， 将所述晶圆良率散点图中的部 分晶圆散点进 行过滤， 以根据更新后晶圆良率数据对所述晶圆良率散点图进 行二次拟合并 重新绘制晶圆良率散点图。 13.根据权利要求1所述的方法， 其特征在于， 所述第 一交互界面还包括界面切换组件； 所述晶圆至少包括第一类裸片， 所述方法还 包括： 响应于用户在所述界面切换组件上的第四预设操作， 将所述第 一交互界面切换至第 二 交互界面； 所述第二交 互界面包括多个WAT测试参数的可选择组件； 响应于用户对所述可选择组件的选择， 确定被选择的WAT测试参数对应的第一类裸片 失效率数据； 根据所述第一类裸片失效率数据， 生成第一类裸片失效率散点图， 并在所述第二交互 界面中显示所述第一类裸片失效率散点图； 所述第一类裸片失效率散点图包括第二WAT拟 合曲线和多个晶圆散点； 所述第一类裸片失效率散点图的横轴表示所述被选择 的WAT测试 参数对应的参数值， 所述第一类裸片失效率散点图的纵轴表示所述第一类裸片对应的失效 率； 所述第二WAT拟合曲线基于所述多个晶圆散点的第一类裸片失效率数据拟合得到， 用于 表示被选择的WAT测试参数对应的参数值与所述第一类裸片对应的失效率之间的关系。 14.根据权利要求1所述的方法， 其特征在于， 所述晶圆良率散点图中至少包括两种不 同颜色的散点， 所述散点的颜色用于标识晶圆的批次信息； 所述第一交互界面还包括晶圆批次显示区域， 所述晶圆批次显示 区域用于表示所述晶 圆的批次与所述散点的颜色之间的对应关系。 15.一种基于WAT测试的晶圆良率数据处理方法， 其特征在于， 每个晶圆包括多个区域，权　利　要　求　书 2/3 页 3 CN 114398141 A 3